Może się więc okazać, że technologia EUV mimo wydanych na nią miliardów dolarów podzieli los litografii rentgenowskiej opracowanej przez IBM. Ta ostatnia, w której jako źródło promieniowania wykorzystywano synchrotron, pochłonęła przeszło miliard dolarów z kasy IBM oraz Agencji ds. Rozwoju Zaawansowanych Obronnych Projektów Badawczych DARPA Defense Advanced Research Projects Agency. W istocie w obydwu technologiach długości fal są zbliżone. Ponieważ w litografii EUV promieniowanie ma tylko nieco większą długość, kiedyś nazywano ją nawet litografią projekcyjną w miękkim zakresie rentgenowskim i działo się tak aż do Podłoże Podłoże WODA WYPEŁNIAJĄCA SZCZELINĘ między obiektywem a podłożem sprawia, że wzrasta rozdzielczość obrazu przenoszonego w procesie litografii..ultrafiolecie nikomu nie przyniesie zysku zawyrokował Willson.